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文献检索:
  • 短波段光学薄膜 收费下载
  • 本文对真空紫外-软X光短波段区域的多种极为重要的光学元件如高反射膜镜、光谱色散器件和光谱滤光片等作了较全面地介绍。除较详细的介绍了他们的制备技术外,对于他们光谱透射与反射性能的测量方法与结果也作了较全面地叙述。
  • 甲硅烷热CVD制备非晶硅薄膜的生长理论分析 收费下载
  • 本文将有关流体力学与分子传质理论及化学反应动力结合起来,对于反应室为单面加热,温度场可调节的热CVD系统进行了边界层理论分析,得到了流体的速度、温度及浓度分布。从硅烷的气相分解及有关基团的表面反应出发,求出薄膜生长速率模型,计算结果与实验数据相吻合,表明是合理的。同时也从理论上证实了所分析的这类甲硅烷热CVD系统是制备非晶硅薄膜的理想结构之一。
  • 亚微米硅外延生长特性研究 收费下载
  • 本文利用附面层模型,研究了亚性米Si外延生长中,生长速率随时间的变化规律,分析不同不的硅源及不同的生长条件对其的影响。
  • SrS:Ce蓝色薄膜电致发光 收费下载
  • 用H2还原法制备了SrS:Ce蓝色发光材料,研究了它的光谱特性,并用不同掺杂浓度比较了H2还原法和CS2还原法,得到了掺杂的浓度范围,研究了H2气氛下处理温度对器件发光的影响。制得了最高亮度为220cd/m^2,流明效率为0.181m/W的蓝色发光器件。
  • a—Si/Mo多层膜的制备及其结构研究 收费下载
  • 本文报导了利用射频溅射技术成功地获得具有一维周期结构的a-Si/Mo多层膜。分析讨论了可控厚度多层膜的生长条件;利用X-ray衍射、SIMS、SEM、Raman等分析手段,对多层膜进行了结构分析;同时还研究了膜的热学性能,结果表明这种多层膜有很好的热稳定性。
  • 一类新型的薄膜多晶硅材料与器件的制备方法及其研究现状 收费下载
  • 本文介绍一类新型的薄膜多晶硅材料及器件的制备方法-后续退火方法并对其研究现状进行评述。对制备过程中初始材料的沉积条件,后续退火条件、以及后氢化处理等诸多环节对薄膜多晶硅材料的性能的影响进行了讨论。最后介绍了用后续退火方法制备薄膜多晶硅太阳电池及多晶硅薄膜场效应管的研究结果。
  • 半导体薄膜材料物理与工艺的研究进展 收费下载
  • 半导体薄膜材料是发展微电子技术的先导条件和制备微电子器件的物质基础,本文提出了五个重要转变,并以此为主线着重讨论和分析了半导体薄膜材料物理与工艺的发展过程、规律与特点。
  • SiO2—Al2O3复合氧化物薄膜的溶胶—凝胶法制备研究 收费下载
  • 以TEOS和水合硝酸铝为原料用溶胶-凝胶法制备复合溶胶,对制备条件进行了研究,并用上述溶胶在不锈钢基体上制备了SiO2-Al2O3复合氧化物薄膜。结果表明,该薄膜在适当组成时具有良好的完整性。当硝酸铝含量过高时溶胶和凝胶的均匀性受到影响。
  • 溶胶—凝胶法制备Fe2O3薄膜 收费下载
  • 以三氯化铁与叔丁醇的反应产物为先驱物,用溶胶-凝胶法制备了透明均匀的Fe2O3薄膜。利用FTIR、XRD、紫外-可见光谱分别对先驱物、凝胶和薄膜进行了分析。结果表明,采用上述先驱物通过溶胶-凝胶过程可获得均匀的Fe2O3膜,该膜在350℃-400℃开始γ-Fe2O3向α-Fe2O3的转变,在可见光区,该膜的着色以吸收着色为主,呈淡黄-棕黄色。
  • 四靶双离子束溅射仪制备软X光衍射色散元件 收费下载
  • 用四靶双离子束溅射仪一体化制备软X光衍射色散元件,宽束平行离子源刻蚀光栅,宽束聚焦离子源镀制软X光多层膜,经SEM、TEM、FC数字化图像处理和效率测试等测试手段分析,结果表明所制备器件具有良好的结构和衍射特性。
  • 微型心音听诊器薄膜混合电路版图的设计研究 收费下载
  • 本文阐述了用计算机(IBM-PC机)对微型心音听诊器薄膜混合电路版图进行辅助设计的方法,介绍了电极,电容器,电阻器图形的绘制原理和特征,以及图形的删除、移动、存贮和打印的技巧。
  • 金刚石膜热学性质研究 收费下载
  • 本文采用电子增强化学气相沉积(EACVD)方法,以甲烷和氢气的混合气体为原料制备金刚石膜,并结合拉曼光谱、扫描电子显微镜、顺磁共振谱等测试手段及光热偏转方法对影响金刚石膜热导率的因素作了实验研究。
  • 溶胶—凝胶沉积PbTiO3薄膜成分和结构的XPS分析 收费下载
  • 对通过Sol-gel工艺制备的PbTiO3薄膜在Ar^+溅射前后作了XPS全扫描和窄扫描测量,结果表明,除了薄膜原始表面有化学吸附氧和污染碳外,薄膜中没有残余的单质碳或其他杂质元素存在,薄膜的元素组成与化学计量比一致,薄膜表面无富集Pb。各元素的化学状态证实薄膜系PbTiO3钙钛矿型结构,Ar^+溅射引起Pb择优溅射和化合物分解,以致Ar^+溅射后薄膜表面元素组成与化学状态严重偏离薄膜体内层的真实
  • 热处理引进Au/NiCr薄膜系统表面状态变化的SEM/SAM研究 收费下载
  • 采用扫描电子显微镜(SEM)和扫描俄歇微探针(SAM)技术,对氧化铝基底上用磁控溅射法沉积的Au/NiCr薄膜系统分别经350℃,20min真空和大气环境下热处理后样品表面状态的变化进行了研究。
  • 《薄膜科学与技术》封面

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